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        產(chǎn)品分類
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        技術(shù)文章/ article
        
        
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        半導體制造與科研的隱形動力kashiyama樫山工業(yè)的選型指南與行業(yè)案例分析
        
            
        更新時間：2025-12-25      瀏覽次數(shù)：168
        
          
        
          
        
        
        
         
        在現(xiàn)代工業(yè)與科研領域，真空技術(shù)已成為推動創(chuàng)新的隱形引擎。從納米級半導體芯片的制造，到食品藥品的安全包裝，再到前沿科學的實驗室探索，真空系統(tǒng)的性能直接影響著工藝穩(wěn)定性、產(chǎn)品質(zhì)量與研發(fā)效率。作為擁有數(shù)十年真空技術(shù)積淀的，樫山工業(yè)（Kashiyama）憑借對不同應用場景的深刻理解，構(gòu)建了覆蓋全領域的真空解決方案矩陣。本文將系統(tǒng)解析樫山真空產(chǎn)品的技術(shù)特性與應用策略，助您精準匹配真空方案。

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        01
        高科技制造領域：工藝導向的精準真空方案
        針對半導體、平板顯示（FPD）等高科技制造的工況（如腐蝕性氣體、微粒污染、高速排氣），樫山工業(yè)通過四大技術(shù)路徑提供定制化方案。
        1.1 半導體制造：分階應對多元工藝挑戰(zhàn)
        高潔凈度工藝解決方案 （CVD/ALD等核心制程）
        SD系列/SDE系列干式真空泵 ：
        工藝適應性 ：螺桿結(jié)構(gòu)+特殊涂層轉(zhuǎn)子，耐受Cl?、NF?等強腐蝕性氣體，減少維護停機時間。
        寬域排氣能力 ：1,000~40,000 L/min，適配300mm晶圓至封裝產(chǎn)線。
        低污染設計 ：無油運行，顆粒物排放控制在Class 1級別，確保芯片良率。
        SD系列
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        中等工藝與輕型工藝方案
        MU系列/MU-PE/HE系列 （蝕刻工藝）：優(yōu)化氣路設計實現(xiàn)耐酸與節(jié)能，排氣速度5,000~30,000 L/min，匹配等離子蝕刻腔體需求。
        MU-XE系列 （負載鎖定/PVD等輕型工藝）：緊湊設計節(jié)省30%安裝空間，排氣速度1,000~5,000 L/min，能耗降低25%，適用于空間受限產(chǎn)線。
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        1.2 平板顯示（FPD）制造：溶劑排氣與大面積制程突破
        SDL系列 （溶劑排氣專用）：
        高速排氣 ：10,000~40,000 L/min，快速清除光刻膠揮發(fā)物，配合氣體冷卻系統(tǒng)防止溶劑冷凝堵塞管路。
        行業(yè)驗證 ：三星、LG等面板 TFT-LCD/OLED蒸鍍工藝的標準配置。
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        02
        通用工業(yè)與科研領域：場景化高效真空解決方案
        聚焦易用性、經(jīng)濟性與環(huán)境適應性，提供空冷式與水封式兩大技術(shù)路線，覆蓋實驗室到生產(chǎn)線全場景。
        2.1 空冷式干式真空泵：免維護時代的開啟
        NeoDry系列 （擺脫冷卻水依賴）：
        全生命周期成本優(yōu)化 ：
        G系列（100~2,000 L/min） ：陶瓷涂層軸承，維護間隔延長至15,000小時。
        E系列（2,000~5,000 L/min） ：變頻調(diào)速功能，平均節(jié)能35%。
        低噪音運行 ：≤55dB（相當于正常交談），適配理化分析、醫(yī)療檢測等噪音敏感場景。
        多領域適配 ：高校實驗室質(zhì)譜分析、制藥凍干、電子元件封裝測試等跨行業(yè)通用。
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        2.2 水封式真空泵：潮濕環(huán)境的可靠伙伴
        LEH/LEM系列 （含水分排氣場景）：
        汽水分離設計 ：處理含濕量高達20%的排氣，排氣速度100~30,000 L/min。
        行業(yè)應用 ：食品干燥、污水處理曝氣、木材防腐等；案例：日本麒麟啤酒生產(chǎn)線采用LEM-800，麥芽干燥時間從8小時縮短至5小時，能耗降低22%。

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        03
        選型指南：三步鎖定最佳真空方案
        樫山提供科學選型方，精準匹配需求：
        ：明確工藝特性
        氣體類型（腐蝕性/惰性/含顆粒/含水汽）、真空度范圍（粗/高/超高真空）、排氣速度（L/min）。
        第二步：環(huán)境約束評估,安裝空間、能源供應（電力/冷卻水）、噪音與振動要求。
        第三步：長期運營成本核算,初期投資（設備+安裝）、能耗、維護周期與成本。
        案例參考 ：
        半導體ALD工藝（三甲基鋁氣體+高潔凈度+2,000 L/min）→ 推薦SDX1200型號；
        食品包裝真空封口（空氣介質(zhì)+1,000 L/min+無冷卻水）→ NeoDry G1000。

         
        
        
      
        
    
        
  
        

        


        
  
        
    
    
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