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半導體納米制造的良率基石與精度保障的MTL編碼器
半導體納米制造的良率基石與精度保障的MTL編碼器
更新時間：2026-01-26
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當半導體制程邁入 3nm 時代，晶圓表面哪怕微米級的瑕疵都可能導致整片報廢，而 Microtec Laboratory（MTL）40 余年的精密制造經驗，正成為半導體設備的 “精度安全鎖"。作為適配 IHI、尼康等行業的日本編碼器專家，MTL 以定制化精密方案，破解光刻、檢測、搬運等核心環節的精度難題。
- 低釋氣材料與無油潤滑設計： 杜絕污染物排放，適配超高真空（UHV）工況。
- 耐高溫： 特殊材料選型，可應對光刻設備 80℃以上的 bake-out 工藝需求。
- 抗電磁干擾： PTFE 絕緣屏蔽線纜，確保信號在電磁干擾密集環境中零失真。
- 高精度定位： 內置編碼器可達 1 角秒定位精度，20bit 高分辨率輸出。
- 晶圓檢測： 在 XY 軸控制中，定位誤差穩定在 ±0.8μm 以內，將缺陷漏判率從 0.3% 降至 0.08%。
- 晶圓搬運： 超小型編碼器（如 φ21mm 的 MDS-13 系列）集成于機械臂關節電機，實現 ±0.01mm 的升降定位精度，避免晶圓碰撞損傷。
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